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納米稀土粉體產品
拋光粉體:氧化鈰/氧化鋁/氧化鉻
一.氧化鈰拋光粉 :

【應用領域】

    1. 各類光學元件(透鏡、棱鏡等)、人工晶體的高精密加工;
    2. 超薄平板玻璃基片的平坦化加工;
    3. 玻殼、鏡片、表門的高速拋光;
    4. 大理石、水晶玻璃飾品的表面加工。

【產品性能】

Repolix 氧化鈰拋光粉產品的特色

(1) 拋光精度更高

采用納米合成技術,通過控制沉淀過程的晶體形成與生長并防止焙燒過程的團聚,使得拋光粉顆粒更細、更均勻,所加工產品的成品率大大提高。

(2) 不同拋光工藝所用的拋光粉的性能各具特色

盡管過篩目數相同,但古典法低速拋光所用產品密度大、易沉降,而高速拋光工藝所用拋光粉具有懸浮性好,易重新分散,不產生泡沫,易清洗的特點,大大方便了工人的操作。

(3)品種齊全,更多選擇

我公司采用純氧化鈰、鑭鈰富集物和混合稀土三種不同含鈰量的稀土原料,配合不同的生產工藝,生產四大類18種各具特點的拋光粉產品,以滿足用戶對性能、價格等多層次的需求。

(4)質量優良, 價格最優

由于本公司以稀土新產品開發為主營業務,因而在稀土原料的的獲取和規模化生產方面具有優勢,保證了產品價格的競爭力,力爭做到產品的性能價格比最優。

【技術指標】

氧化鈰磨料

型號
產品特性
顆粒大,淺黃色,比重大,流動性好。
應用領域
水晶、飾品拋光盤(粉盤); 聚胺酯拋光片、拋光輪添加材料; 拋光蠟板添加; 古典低速光學加工,尤其是透鏡等球面加工; 磨邊與手修處理;
化學成分
TREO>99%, CeO2/TREO>99.9%
顆粒度
D10
> 15
> 12
> 8
> 6
> 4
> 1
D50
28±5
24±2
20±2
16±2
12±2
4±2
D90
< 80
< 60
< 45
< 32
< 24
< 12

純氧化鈰拋光粉

型 號
產品特性
純氧化鈰拋光粉,顏色淺黃。懸浮性好,硬度中等。
適用領域
用于ZK、LaK等較軟玻璃材料的快速拋光或較硬材料的高精度拋光,如玻璃磁盤,IC光掩膜、硅片等。
化學成分
TREO>95%, CeO2/TREO>99.9%
顆粒度
D10(um)
> 1.0
> 0.3
> 0.8
> 1.0
D50(um)
0.5±0.2
1.2±0.2
1.8±0.2
2.6±0.4
D90(um)
<4.0
< 5.0
< 6.0
< 10

富鈰稀土拋光粉

型 號
產品特性
富鈰拋光粉,白色,硬度較高,懸浮性好。
適用領域
適用于較硬材料的光學加工,如K9,K7,超薄玻璃基片等的拋光等。
化學成分
TREO>95%, CeO2/TREO>70%
顆粒度
D10(um)
> 1.0
> 0.3
> 0.8
> 1.0
D50(um)
0.5±0.2
1.2±0.2
1.8±0.2
2.6±0.4
D90(um)
< 4.0
< 5.0
< 6.0
< 10

混合稀土拋光粉

型 號
產品特性
通用型低鈰拋光粉,棕紅色,拋光速度快,價格低。
適用領域
適普通光學鏡頭、玻殼、鏡片、平板玻璃、鈕扣、水晶飾品、表門等材料的拋光。
化學成分
TREO>95%, CeO2/TREO>50%
顆粒度
D10(um)
> 0.1
> 0.3
> 0.8
> 1.0
D50(um)
0.5±0.2
1.2±0.2
1.8±0.2
2.6±0.4
D90(um)
< 4.0
< 5.0
< 6.0
< 10
二.氧化鋁拋光粉 :

【應用領域】

    1. 電子行業:電子行業單晶硅片的研磨;
    2. 裝飾行業:不銹鋼餐具及其它裝飾材料的拋光;
    3. 噴涂材料:等離子噴涂;
    4. 光學玻璃冷加工。

【產品性能】

顆粒圓滑,不易產生劃痕。粒度分布范圍窄,硬度高(模氏硬度9),磨削力強,研磨后材料表面質量好。

【技術指標】

指標/級別
PL-A-1
晶型
α
純度(%)≥
99.99
中位粒徑 d50(μm)
0.5-2.0
松裝密度 (g/cm3)
0.3-0.6
比表面積 (cm2/g)
5-12

二.氧化鉻拋光粉 :

【應用領域】

晶體氧化鉻的莫氏硬度為9,僅次于金剛石(10),而與剛玉(氧化鋁)、金剛砂(碳化硅)相同。比常見的石英、瑪竭(7度),長石(6度),鋼鐵及玻璃(5.5-6、5度)硬得多,因此廣泛用于陶瓷、機械、儀器、鐘表、光學玻璃的研磨與拋光。

【產品性能】

顆粒圓滑,不易產生劃痕。粒度分布范圍窄,硬度高,磨削力強,研磨后材料表面質量好。

【技術指標】

指標/級別
PL-CR-05
PL-CR-20
純度(%)
≥ 99
≥ 99
中位粒徑d50(μm)
0.5
2.0
松裝密度(g/cm3)
1.4
1.4
比表面積(cm2/g)
5-12
5-12

 
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